SUN-2000N 紫外负性光刻胶采用安全溶剂，具有曝光剂量低、对比度高、分辨率高、光透过率高、光刻成品率高以及良好的工艺宽容度等诸多优点。可广泛应用于触摸屏中的架桥层和钝化层等制造工艺。